氧化鉑作掩膜的只讀超辨别光盤

　　在光存儲領域裏，只讀式光盤是除了一次記錄、一次可擦，可重複擦寫光盤外的另一個重要分支，在市場中占有很大的份額；而爲了提高光存儲密度，超辨别技術最近幾年也越來越受到人們的關注。因此研究只讀式超辨别光盤有它重要的應用和科學研究價值。由于不考慮記錄過程，因此研究的過程可以大大簡化，這更利于從科學的角度進行分析研究。在先進技術中，人們采用銻(Sb)，鍺銻碲(GeSbTe)和銀铟銻碲(AgInSbTe)等相變材料作爲掩膜材料。采用以上材料作爲掩膜材料，是使用了材料的非線性開孔效應，所開小孔小于衍射極限，但是這種開孔效應在長時間的讀出會出現疲勞現象，即使采用保護層進行保護，它的讀出循環性質還是會受到一定的限制的。

發明內容

本發明要解決的問題在于有效地克服上述現有技術的缺陷和困難，提供一種氧化鉑作掩膜的只讀式超辨别光盤，該光盤應具有穩定性好、信噪比更高和更好的讀出循環性。

本发明的技术解决方案如下：一种氧化鉑作掩膜的只讀超辨别光盤，其特征在于它的组成是在盘基底上依次镀有第二保护层、氧化铂掩膜层和第一保护层，所述的第一保护层和第二保护层均是由硫化锌∶二氧化硅＝80∶20的复合材料组成的薄膜层；所述的氧化铂(PtOx)中的含O2量由溅射过程中O2/(O2+Ar)的分压比例决定，分压比的取值范围为0.1～0.4。所述的氧化铂掩膜层的厚度为15-80nm的纳米。所述的纳米氧化铂粒子的粒度为几至十几纳米。所述的第一保护层和第二保护层的厚度均为30nm。

本發明的技術结果：本發明采用納米氧化鉑代表傳統相變材料作爲掩膜材料。它和相變材料的只讀式超辨别光盤相比，在讀出過程中，掩膜層拒绝易受到熱破壞，不易出現疲勞現象，因此具有更好的穩定性質，讀出循環性高，同时由于金屬納米粒子的近場增強效應，所獲得的信噪比也更高。這是因爲納米氧化鉑在聚焦光束作用下不是形成一個動態開關小孔(尺寸小于衍射極限)，而是形成一個散射中心，這個散射中心由很多小的幾納米到十幾納米的鉑金粒子構成，統稱爲鉑金納米粒子。該鉑金納米粒子在激光的照射下不會發生形變、熔化等物理化學變化，具有很好的穩定性。同时該鉑金納米粒子在光的照射下會産生外表或局域等離子體增強效應(形成近場光)，近場光和記錄點相互作用後引起折射率或者消光系數的改變，反映到遠場從而使小于衍射極限的記錄點信息可以辨别，可獲得的信噪比沒有金屬粒子的相變材料要高。因此氧化鉑作爲掩膜材料可以獲得更高的信噪比和讀出循環性，使本發明只讀式超辨别光盤具有很高的實用性。